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日本

微細加工品 受託製造サービス

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原盤、Ni電鋳、試作/量産品など、2D/3Dの微細加工技術を駆使して様々な分野に微細加工品を提供して参ります。

製造プロセス

製造プロセスは3つに分けられます

原盤(マスターモールド)

原盤とは青板ガラスやシリコンの基板に凹凸のパターンを描画し作製します。
マスクレス3Dレーザー描画装置による1,024諧調のグレースケールリソグラフィの滑らかな描画を駆使し、ミクロン(数十μm)からそれよりも小さいサブミクロン(数百nm)クラスの微細で繊細なパターンを形成し、マイクロレンズアレイ(MLA)・回折光学素子(DOE)などの立体的な微細構造に対応しております。

「マスク露光(転写露光)」「マスクレス露光(直描露光)」二つの対応が可能です

マスク露光(転写露光)

マスク露光は2D形状のみの対応となります。転写技術を使って光(紫外線)を当てて転写しパターンを形成します。
描画時間が短くフイルムマスクまたはガラスクロムを1度作れば同じものが作れるのが特長です。
ガラスクロムはフイルムマスクよりも微細度が高くより細かい描画が可能です。

マスクレス露光(直描露光)

マスクレス露光は2Dだけでなく3D形状も描画できるのが特長です。
レーザー直接描画(最細300nm描画モード)を駆使し、マスク露光よりも微細な描画が可能です。直接描画するためマスクを作成する必要がありません。
微細加工における3D形状は、レーザーPowerのON(100)~OFF(0)の強弱で1,024諧調のグレイスケールリソグラフィーにより、
繊細な傾斜やR描画などをはじめとする立体的で複雑な3D形状を滑らかに表現いたします。
非球面レンズ面へのパターン形成も可能です。

  • * 諧調による違いのイメージ

ニッケル電鋳金型(Ni電鋳金型)

Ni電鋳金型とは射出成形やナノインプリントで成形品を作るための金型です。
微細パターンを描画した原盤をもとに300μmの薄厚ナノ構造のNi電鋳金型を製作いたします。

  • * 300μm以外の厚さをご希望の場合はご相談ください。

1枚の原盤から大量のNi電鋳金型を複製することも可能です。

ナノ構造Ni金型複製プロセス

射出成形(量産)

射出成形は成形速度が速く同じ形のものを大量に製造することが可能です。
情報記録メディア事業で製造しているCD・DVDも射出成形で製造しており、品質のバラツキも少なく、安定した品質の製品を供給いたします。


ナノインプリント(量産)

ナノインプリントとは金型を型押しすることでパターンを転写する技術です。
ナノメートル単位での転写が可能で、工程がシンプルなため再現性が高く、大量に成形することが可能です。

光硬化(UV)および熱硬化インプリント方式を採用しております。
基材の表面に硬化性樹脂を塗布し金型を押しつけます。
そして樹脂を硬化させ、金型を剥がすとフィルムの表面にパターンが形成されます 。

ナノインプリントは 「バッチ式(シートやウェハー型)」 と 「Roll to Roll式」 の2種類の対応が可能です。

バッチ式
Roll to Roll式