製造プロセス
製造プロセスは3つに分けられます
原盤（マスターモールド）
原盤とは青板ガラスやシリコンの基板に凹凸のパターンを描画し作製します。
マスクレス3Dレーザー描画装置による1,024諧調のグレースケールリソグラフィの滑らかな描画を駆使し、ミクロン(数十μm)からそれよりも小さいサブミクロン(数百nm)クラスの微細で繊細なパターンを形成し、マイクロレンズアレイ(MLA)・回折光学素子(DOE)などの立体的な微細構造に対応しております。
「マスク露光(転写露光)」「マスクレス露光(直描露光)」二つの対応が可能です
マスク露光（転写露光）
マスク露光は2D形状のみの対応となります。転写技術を使って光(紫外線)を当てて転写しパターンを形成します。
描画時間が短くフイルムマスクまたはガラスクロムを1度作れば同じものが作れるのが特長です。
ガラスクロムはフイルムマスクよりも微細度が高くより細かい描画が可能です。
マスクレス露光（直描露光）
マスクレス露光は2Dだけでなく3D形状も描画できるのが特長です。
レーザー直接描画(最細300nm描画モード)を駆使し、マスク露光よりも微細な描画が可能です。直接描画するためマスクを作成する必要がありません。
微細加工における3D形状は、レーザーPowerのON(100)～OFF(0)の強弱で1,024諧調のグレイスケールリソグラフィーにより、
繊細な傾斜やR描画などをはじめとする立体的で複雑な3D形状を滑らかに表現いたします。
非球面レンズ面へのパターン形成も可能です。
- * 諧調による違いのイメージ
ニッケル電鋳金型（Ni電鋳金型）
微細パターンを描画した原盤をもとに300μmの薄厚ナノ構造のNi電鋳金型を製作いたします。
- * 300μm以外の厚さをご希望の場合はご相談ください。
1枚の原盤から大量のNi電鋳金型を複製することも可能です。
ナノ構造Ni金型複製プロセス
