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富士フイルム フォトマスクフィルム

NEW

充実したラインアップと徹底したディフェクト対策で最新ニーズにフル対応する高精密フォトマスクシステム。

ファインパターン 精密フォトマスクシステム。

エレクトロニクス機器の小型化・高性能化などにより、フォトシステムにも、ますます高次元な品質精度が求められている現在。一方で、世界的に環境保全への認識が高まり、可能な限りその改善に貢献する製品づくりが、私たちメーカーの使命になっています。
INTEGRA IPは、まさにそれら2つのニーズに、最高のパフォーマンスでこたえる先進の精密フォトマスクシステム。世界最高クラスの画質と、世界最小レベルの低補充を同時に達成した”ラス現像処理の中核システム”として、ファインパターン分野の発展を支えます。

圧倒的なキレのよさ、抜群の細線再現性を実現

フィルム乳剤に内蔵した「新造核促進剤」が、現像進行にともなう不要な画像拡大を的確にコントロール。細線再現性の向上により、高密度パターンのライン&スペースも忠実に再現でき、超硬調かつ高濃度な仕上りで、キレのよいラインがつねに安定して得られます。

フィルムと処理剤の両面から処理安定性を向上

独自に開発した「超安定現像処理剤」が、現像液劣化の主要因である”空気酸化疲労”と”処理疲労”を大幅に抑制。さらにフィルムには、現像液のpH変化に対する感度変化を極限まで抑え込むための「超高活性造核材」を使用。感材側と処理剤側に投入した新技術の相乗効果により、従来型とは次元の違う超安定処理が実現しています。

補充量も廃液量も世界最小レベルをクリア

廃液量比較(500㎡/月使用時)

50.8×61.0cmサイズ1枚あたり、現像液50ミリリットル、定着液80ミリリットルと、世界最小の低補充を達成。処理廃液も大幅に削減でき、環境保全への貢献はもちろん、廃液回収にかかわる確実なコストダウンにもつながります。

「液体と顆粒」、2タイプの処理剤をラインアップ

顆粒タイプはわずか2kgと軽量で容器もコンパクトなので誰にでもラクラクと取り扱え、そのうえ液ダレなどのトラブルもなく、現場の環境がよりクリーンに。また、使用後の容器は小さく折り畳むことができ、廃材容量を従来の1/2程度にまで減少できます。

お手持ちのプロセサーをそのまま活用可能

新規のフィルムプロセサーを購入する必用がなく、導入にあたっての特別な準備も要りません。液体タイプの処理剤をしようする場合には、補充装置も既存のままでOK。導入時にもランニング時にも、確かなコストメリットを発揮するINTEGRA IPシステムです。

INTEGRA IPシステムに投入された高次元テクノロジー

Satisfineシリーズ

フィルム素材と包装材料の技術改良により大幅なディフェクトの減少を実現します。

  • フィルム製造工程のさらなるクリーン化と、フィルムベース技術のハイレベル化により、”フィルムベースが関わるディフェクト要因”を大幅に減少。微細配線パターン異物接触、カケを防止し、フィルム検査時間の短縮と歩留りの向上に威力を発揮します。
  • 転送中に発生するディフェクト要因を新パッケージがシャットアウト。外側パッケージは、”クリーンルーム外で開封し、クリーンルーム内には特殊包装内袋のみを持って入る仕組み”になっているため、紙粉やホコリなどによるトラブルが防げ、クリーンルーム内のクリーン度の維持・管理が容易に行えます。

HGシリーズ

各湿度におけるフィルム表面の抵抗率の比較

マスクフィルムから静電気を追放し、修正作業の軽減、作業性の大幅向上を実現します。

  • フィルムのバッキング層に”導電性粒子”を付加し、フィルムから静電気を追放。静電気によるゴミやホコリの付着を防止し、修正作業を減少します。
  • 低湿度環境においても、処理後のフィルムにおいても永久的な帯電防止の効果を発揮。乾燥時期の「ゴミやホコリの付着」に加え、密着反転時の「静電気スパークかぶり」などのトラブルも防止します。
  • レーザーフォトプロッター~自動現像機への連続自動フィルム搬送における、静電気に起因するジャミングトラブルも防げます。

処理済フィルムによる静電気発生比較

製品ラインアップ

INTEGRA IPシステムを構成するワイドな製品ラインアップ。

フィルム

用途

型番

Satisfine

HG

レーザーフォト作画用/フォト作画用

IP-S 175

 

XPR-7S SG

GPR-7S

カメラワーク用/コンタクトワーク用

IP-S 175

 

コンタクトワーク用/ステップ&リピートワーク用(明室用)

RU-175S

RU-175

 

  • * すべての用途のフィルムを、1液で高品質に統合処理することができます。
  • * 175=ベース厚み175μm