半導体プロセス材料

最先端の技術で回路線幅100nm以下の極微小世界を実現する、半導体集積回路製造用のフォトレジストです。

身近になったデジタルカメラ、携帯電話などイメージセンサーを搭載した機器。このセンサーに必須なマイクロカラーフィルターを製造するのに、着色感光材料「COLOR MOSAIC®」が使われています。

後工程（BEOL）市場に向けた品揃え。低誘電率の絶縁材料（Low-k材）とその関連製品を取り揃えております。

半導体製造プロセスにおける銅配線層の平坦化に用いられる研磨剤(CMPスラリー)を用意しております。

表面洗浄からレジスト除去、エッチング残渣の除去まで幅広い分野の洗浄液材料を取り揃えています。

フォトマスク基板特有の要求性能に合わせた専用のフォトレジスト。化学増幅型ポジレジスト市場のトップサプライヤーであり、デファクトスタンダードとなっています。

電子材料として幅広く使用できるポリイミド製品。すぐれた加工特性をもち、MEMSなどへも使用されています。