日本

フォトマスク用レジスト製品

NEW

フォトマスク基板特有の要求性能に合わせた専用のフォトレジスト。化学増幅型ポジレジスト市場のトップサプライヤーであり、デファクトスタンダードとなっています。

化学増幅型ポジレジスト市場のデファクトスタンダード。

半導体製品はフォトリソグラフィ技術の進歩により高集積度化を重ねることで高性能化が進んでおります。その進歩を支えるものの一つがフォトマスクです。現在では要求される精度も増し、フォトマスクの製造にも難易度の高い技術が必要となりました。富士フイルムはフォトマスク専用のレジストを開発し、高度なフォトマスク製造に貢献しております。
フォトマスク用レジストは、フォトマスク製造時の特有な要求性能に合わせた面内均一性、経時安定性、温度依存性の少ない性能を有しており、デファクトスタンダードとして世界中のユーザーに使用されております。

製品一覧

  • EB用ポジ型フォトレジスト
  • EB用ネガ型フォトレジスト