Belgien

Druckmessfolie Prescale

Anwendungsbeispiele in Halbleiter- oder Halbleiterfertigungsanlagen

Aufgrund der Miniaturisierung der Halbleiter gewinnt der Druck bei der Herstellung von Halbleitern allmählich an Bedeutung. Unter diesen Umständen haben Hersteller von Produktionsanlagen und -materialien sowie Halbleiterhersteller begonnen, PRESCALE in verschiedenen Anwendungen einzusetzen, beispielsweise zum „Messen des Polierdrucks in einer chemisch-mechanischen Polieranlage (CMP)“, „um die Druckverteilung der Laminierpresse bei der Herstellung eines elektrostatischen Spannfutters einer Keramikheizung zu überprüfen“ oder „Messdruckverteilung einer Spritzgussmaschinemaschine durchzuführen“ usw.
Auf dieser Seite werden einige Anwendungen beim Halbleiterherstellungsprozess vorgestellt. Natürlich gibt es neben den folgenden Anwendungen noch viele andere Anwendungen. Wenn Sie also den Oberflächendruck einfach und kostengünstig messen möchten, können Sie gerne unsere Muster anfordern.

Prozess

Front-End-Prozess (Wafer-Verarbeitungsbetrieb)

1. Kauf von Silizium-Wafern

Ein Siliziumwafer ist ein scheibenförmiges Stück hochreines Silizium. Wafer-Größe ist im Allgemeinen 200mm/300mm.
Einige Halbleiterhersteller betrachten jetzt 450 mm als Standard der nächsten Generation.

2. Reinigungsprozess

Da sich unmittelbar nach dem Kauf verschiedene Arten von Staub oder Metallionen auf dem Wafer befinden, werden sie mit hochreinen Säure- oder Alkalichemikalien entfernt.

3. Prozess der Filmabscheidung

Der Isolierfilm und der leitende Film, die für Halbleiter verwendet werden, werden auf einem Wafer abgeschieden.

4. Prozess der Photolithographie

Ein Schaltungsmuster wird auf einen Wafer mit einem Fadenkreuz gezeichnet (übertragen).

5. Prozess der Ionenimplantation

Einige Verunreinigungen wie Phosphor und Bor, die die elektrischen Eigenschaften (P-, N-Typ) von Halbleitern bestimmen, werden in den Wafer implantiert.

7. Abscheidungsprozess

Ein Wafer ist mit Isolationsfilmen bedeckt, die die Verdrahtungen durch jede Schicht trennen.

8. Chemisch-mechanische Polierverfahren

Eine Waferoberfläche wird poliert und abgeflacht, um nachfolgende Prozesse zu erleichtern.

Back-End-Prozess (Montageprozess)

9. Oberflächenschutzband

Ein Schutzband ist an der Schaltungsoberfläche oder einem Wafer angebracht, um eine Schaltung während des Rückschleifens zu schützen.

10. Prozess des Rückschleifens

Die Rückseite eines Wafers ist insgesamt dünn geschliffen.

11. Einfügen der Sägefolie

Eine Sägefolie wird auf einen Wafer aufgebracht, um ihn zu fixieren.

12. Sägeprozess
13. Montageprozess

Eine Spitze ist auf einem Metall-Leitrahmen montiert.

14. Bindungsprozess (Drahtbindung)

Eine Spitze ist mit Golddrähten mit Elektroden im Bleirahmen verbunden.

15. Prozess der Formgebung

Eine Spitze ist so geformt, dass sie eine Verpackung mit einer harzigen Einkapselung ist.

16. Prozess der Kennzeichnung

Der Produktname oder Herstellername ist auf der Verpackung angegeben.

17. Inspektionsprozess

Spitzen, die als gute Produkte geprüft wurden, werden versendet.

Halbleitersubstrate

Flexible Substrate
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