Nos plaques à faible chimie sont idéales pour les applications à fonctionnement plus long et même si elles nécessitent un processeur, elles peuvent réduire considérablement les ressources nécessaires à la production de plaques sous forme d’eau, de chimie, de matériaux, de main-d’œuvre et d’énergie.
Une plaque CTP thermique haute définition, à fonctionnement positif, pour les applications d’impression commerciale à long terme.
Une plaque CTP thermique haute définition, à fonctionnement positif, pour les applications d’impression commerciale à long terme. Le Superia LH-PLE peut être utilisé avec des encres UV, non cuites ou cuites et présente une résistance accrue aux rayures.
Consommation de chimie inférieure
Lorsqu’il est utilisé avec les processeurs Fujifilm FLH-Z ou FLC-TZ, le Superia LH-PLE peut bénéficier d’une consommation chimique beaucoup plus faible. Généralement, un bain complet de révélateur peut développer jusqu’à 20 000 m2 de plaques, ce qui permet de réaliser des économies substantielles en termes de consommation de révélateur. Pour une imprimerie utilisant environ 10 000 plaques B1 sur une période de 1-3 mois, la consommation de produits chimiques peut être réduite de plus de 80 % (selon le système utilisé).
Moins de maintenance
Le maintien d’une activité parfaite du développeur permet d’augmenter considérablement la durée de vie du bain du développeur au-delà de la norme pour le développement de systèmes. Il est classique d’obtenir des valeurs de durée de vie du bain quatre fois supérieures ou plus à celles des systèmes de traitement de plaque normaux. Ces améliorations signifient qu’un bain complet de révélateur va maintenant développer jusqu’à 20 000 m2 de plaques Superia LH-PLE, ce qui entraînera des réductions substantielles du temps de nettoyage. Il n’est pas rare d’économiser plus de 40 heures de temps de nettoyage pour un grand consommateur de 32 000 m de plaques au cours d’une année de production de plaques.
Environnement de travail plus propre
La chimie utilisée pour le traitement des plaques Superia LH-PLE dans un système ZAC est une recette sans silicate. Ce processus augmente la durée de vie du bain-mère sans augmentation de boue et de blocages de filtre. En outre, Superia LH-PLE intègre une couche de développement améliorée (EDL) qui améliore la solubilité des zones sans images pendant le développement, améliorant ainsi la durée de vie du bain, offrant une plus grande latitude de développement, se soldant par un travail beaucoup plus propre. Enfin, comme la chimie ne contient pas d’alcool ou de solvants, l’environnement de travail est préservé.
Production de plaques plus stable
Les processeurs ZAC contrôlant intelligemment la livraison des réapprovisionnements sont plus stables, ce qui permet d’obtenir une qualité optimale, indépendamment des changements de conditions environnementales. Ceci est particulièrement important pour les applications de criblage FM exigeantes.
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