| 1983年 |
「富士写真フイルム株式会社」が「Philip A. Hunt Chemical Corporation」（現「Arch Chemicals, Inc.」）と合弁会社「富士ハントエレクトロニクステクノロジー株式会社」（後に合弁先の被買収により、「富士フイルムアーチ」に社名変更）設立。フォトレジストの輸入販売を開始 |
| 1984年 |
静岡工場設立。フォトレジストの生産を開始 |
| 1996年 |
台湾に現地生産会社「FUJIFILM OLIN Taiwan Co., Ltd.」（現「FUJIFILM Electronic Materials Taiwan Co., Ltd.」）を設立 |
| 2000年 |
韓国に現地法人「FUJIFILM OLIN Korea Co., Ltd.」（現「FUJIFILM Electronic Materials Korea Co., Ltd.」）を設立 |
| 2004年 |
シンガポールに現地法人「FUJIFILM Electronic Materials (Singapore) Pte. Ltd.」を設立 |
| 「Arch Chemicals, Inc.」より同社Microelectronic Materials部門と同社所有の富士フイルムアーチの株式全数を買収。「富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ株式会社」に社名を変更。米国に「FUJIFILM Electronic Materials U.S.A. Inc.」、ベルギーに「FUJIFILM Electronic Materials (Europe) N.V.」を設立 |
| 2005年 |
中国に製造販売拠点として現地法人「FUJIFILM Electronic Materials (Suzhou) Co., Ltd.」を設立 |
| 米国の半導体用CMPスラリーの開発・製造会社「Planar Solutions, LLC」の米国「Arch Chemical, Inc.」の出資持分（持分比率50%）を取得 |
| 2010年 |
「Planar Solutions, LLC」の全株式を取得し、「FUJIFILM Electronic Materials U.S.A. Inc」に統合 |
| 2012年 |
韓国に製造会社「FUJIFILM Electronic Materials Manufacturing Korea Co., Ltd.」を設立 |
| 2015年 |
米国の高純度溶剤製造・販売会社「Ultra Pure Solusions, Inc.」を買収 |
| 2019年 |
「富士フイルム和光純薬株式会社」より、半導体プロセス材料を吸収分割により承継 |
| 2022年 |
韓国の現地法人「FUJIFILM Electronic Materials Manufacturing Korea Co., Ltd.」を「FUJIFILM Electronic Materials Korea Co., Ltd.」に統合 |
| 2023年 |
米国半導体材料メーカー「Entegris, Inc.」の半導体用プロセスケミカル事業「CMC Materials KMG Corporation（FEPC)」を買収 |
| 2025年 |
米国の現地法人「Ultra Pure Solusions, Inc.」とFEPCの米国法人を「FUJIFILM Electronic Materials U.S.A. Inc」に統合 |
| シンガポールの現地法人「FUJIFILM Electronic Materials (Singapore) Pte. Ltd.」にFEPCのシンガポール法人を統合 |
