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한국
매크로 실리콘 웨이퍼

네거티브(폴리아이소프렌 기반)

다양한 네거티브 톤, 폴리아이소프렌 기반 레지스트 시스템 시리즈

다양한 기판에서의 광범위한 프로젝션, 근접 및 접촉 이미징 및 습식 식각 요구에 적용할 수 있는 다양한 네거티브 톤, 폴리이소프렌 기반 레지스트 시스템 시리즈

제품 요약

  • SC 레지스트 시리즈
    접촉 프린터 노광용 1.8~10μm 코팅을 사용하는 더 두꺼운 응용 분야에 적합하도록 설계
  • IC Type 3 레지스트 시리즈
    투사, 근접 및 접촉 프린터 노광에서 0.75~2.0μm 코팅을 사용하는 응용 분야에 적합하도록 설계
  • HNR 레지스트 시리즈
    근접 및 접촉 프린터 노광에서 0.50~1.40μm 코팅을 사용하는 고해상도 응용 분야에 적합하도록 설계
  • HR 레지스트 시리즈
    투사, 근접 및 접촉 프린터의 고반사율 기판 노광에서 0.70~1.50μm 코팅을 사용하는 응용 분야에 적합하도록 설계