インテル社より「2025 EPIC Supplier Award」を受賞

富士フイルム株式会社（本社：東京都港区、代表取締役社長・CEO：後藤 禎一）は、半導体材料事業において、Intel Corporation（本社：米国、以下インテル社）より、「2025 Intel EPIC Supplier Award」を受賞したことをお知らせします。

「Intel EPIC Supplier Award」は、インテル社のサプライチェーンにおいて「EPIC」パフォーマンス（Excellence、Partnership、Inclusion、Continuous Improvement）に献身的に取り組んでいるトップ・パフォーマーを毎年表彰するものです。

世界に20か所の製造拠点を有し、安定したサプライチェーンの確立に尽力する当社の取り組みが評価され、Intel EPIC Supplier Awardを受賞できたことを大変嬉しく思います。今回の受賞は、インテル社の戦略的パートナーとして強固な関係を築き、高品質な半導体材料の地域調達に貢献する当社の功績が評価された証です。

富士フイルムが、Intel EPIC Supplier Awardを受賞されたことをお祝い申し上げます。品質への揺るぎないコミットメント、卓越性への意欲、技術革新への献身は、当社の成功に不可欠なものです。私たちは、富士フイルムの協力と、結果にこだわり続ける姿勢を評価し、感謝しています。

限られた企業のみが受賞する2025 Intel EPIC Supplier Awardの受賞者である富士フイルムは、半導体業界において真に優れたサプライヤーの1つです。徹底した顧客志向と優れたパフォーマンスへのコミットメントは、同社の真摯な取り組みの証であり、他社が追随すべきグローバルなベンチマークとなります。
 

富士フイルムは、フォトレジスト^*1やフォトリソ周辺材料^*2、CMPスラリー^*3、ポストCMPクリーナー^*4、薄膜形成材^*5、ポリイミド^*6、高純度プロセスケミカル^*7など半導体製造の前工程から後工程までのプロセス材料や、イメージセンサー用カラーフィルター材料をはじめとしたWave Control Mosaic（ウエイブ コントロール モザイク）^™*8などをグローバルに展開しています。
当社は今後も、最先端からレガシーノードまで半導体製造プロセスのほぼ全域をカバーする豊富な製品ラインアップに加え、日米欧アジアの主要国に製造拠点を有するグローバルな安定供給体制や高い研究開発力を生かしたワンストップソリューションの提供により、顧客の課題解決に取り組み、半導体産業の発展に貢献していきます。

• *1 半導体製造の工程で、回路パターンの描画を行う際にウエハー上に塗布する材料。
• *2 半導体製造のフォトリソ工程で使用する現像液やクリーナーなど。
• *3 硬さの異なる配線や絶縁膜が混在する半導体表面を均一に平坦化する研磨剤。CMPは、Chemical Mechanical Polishing（化学的機械研磨）の略。
• *4 CMPスラリーによる研磨後に、金属表面を保護しながら、粒子、微量金属および有機残留物を洗浄するクリーナー。
• *5 低誘電率の絶縁膜を形成するための材料。
• *6 高い耐熱性や絶縁性を持つ材料。半導体の保護膜や再配線層の形成に使用される。
• *7 洗浄・乾燥工程に使われる高純度薬品。半導体製造の洗浄・乾燥工程で異物を除去したり、エッチング工程にて金属や油脂などを取り除くために使用する化学薬品。
• *8 広範囲な波長の電磁波（光）をコントロールする機能性材料群の総称。デジタルカメラやスマートフォンに用いられるCMOSセンサーなどのイメージセンサーのカラーフィルターを製造するための着色感光材料を含む。Wave Control Mosaicは、富士フイルム株式会社の登録商標または商標です。

• * 記事の内容は発表時のものです。最新情報と異なる場合（生産・販売の終了、仕様・価格の変更、組織・連絡先変更等）がありますのでご了承ください。