ポジ型およびネガ型フォトレジストの除去およびエッチング後の残渣除去。
- DMSOベース
- Microstrip™ 3001：広範囲に適用可能なバルクフォトレジスト剥離液
- Microstrip™ 3200：マイルドな酸性で、アミンフリーの剥離液であり、優れた金属適合性を持つ
- Microstrip™ 6800：クロスリンクが著しいフォトレジストに対して、優れた洗浄性能を持つシングルウエーハ装置に適用可能なフォトレジスト剥離液
- Microstrip™ 6310：高耐久性のCu適合フォトレジスト剥離液
- Microstrip™ 6365：AlやCuを含むさまざまな金属と広範囲に適合する高耐久性フォトレジスト剥離液
- ネガ型フォトレジスト除去用剥離液
- Microstrip™ V
- ポジ型およびネガ型フォトレジスト除去用剥離液
- Gensolve™ 470
- 富士フイルムのフォトレジスト剥離液は、最適なパフォーマンス、低い運用コスト、環境と健康への影響を最小限に抑えるように設計されています。
- 梱包オプション:
- 4Lボトル×4本
- 1×20Lジェリカン
- 200Lドラム缶（one-wayまたはリターナブル）
- 1000L IBC
