Tokio, 10 maja 2023 r. - Koncern FUJIFILM (Prezes, dyrektor generalny i dyrektor reprezentacyjny: Teiichi Goto) ogłosił dzisiaj, że firma zawarła ostateczną umowę*1 dotyczącą nabycia za kwotę 700 mln USD*2 przedsiębiorstwa CMC Materials KMG Corporation (KMG), specjalizującego się w wytwarzaniu chemikaliów wysokiej czystości stosowanych w produkcji elementów półprzewodnikowych (dalej: HPPC) od amerykańskiej spółki Entegris, Inc. (dalej: Entegris), NASDAQ: ENTG.
Dzięki przejęciu KMG, firma Fujifilm będzie mogła zaoferować swoim klientom szerszy wachlarz chemikaliów stosowanych w elektronice, w tym linię produkowanych przez KMG preparatów chemicznych wysokiej czystości (HPPC) używanych do wytrawiania i oczyszczania wafli krzemowych w procesie produkcji elementów półprzewodnikowych, które zyskują coraz silniejszą pozycję wśród materiałów wykorzystywanych w tego rodzaju procesach produkcyjnych. Linia preparatów HPPC dostarczanych przez KMG uzupełnia istniejącą ofertę produktów Fujifilm, do której należą fotorezysty*3, materiały fotolitograficzne, roztwór polerujący stosowany w procesie planaryzacji chemiczno-mechanicznej*4, chemia czyszcząca stosowana po przeprowadzeniu procesu planaryzacji (polerowania) chemiczno-mechanicznej*5, prekursory warstw cienkich*6, poliimid*7 oraz Wave Control Mosaic*8. Rozszerzenie oferty produktowej dodatkowo wzbogaconej procesami ciągłego doskonalenia i innowacji Fujifilm, a także połączone zasoby obu przedsiębiorstw, pozwolą firmie Fujifilm lepiej dostosować się do rosnącego krótko- i długoterminowego zapotrzebowania producentów półprzewodników na światowej klasy, innowacyjne produkty będące doskonałym wsparciem w wytwarzaniu najnowocześniejszych elementów półprzewodnikowych.
Dzięki przejęciu KMG Fujifilm pozyska również ok. 560 wysoko wykwalifikowanych pracowników zatrudnionych w dwunastu dodatkowych miejscach, w tym w 7 zakładach produkcyjnych w Stanach Zjednoczonych, Europie i Singapurze. Jeden z nich stanie się pierwszą fabryką materiałów elektronicznych w Azji Południowo-Wschodniej. Globalny obszar działania KMG i strategiczne umiejscowienie w niewielkich odległościach od fabryk należących do najważniejszych światowych producentów półprzewodników, przekłada się w rezultacie na wyższą odporność łańcuchów dostaw do tych klientów. Część transakcji obejmuje również przejęcie należącego do KMG przedsiębiorstwa Total Chemical Management, które świadczy usługi logistyczne dla klientów w Azji Południowo-Wschodniej i Europie.
- powiedział Tetsuya Iwasaki, wiceprezes i dyrektor generalny Działu Materiałów Elektronicznych w FUJIFILM Corporation.
KMG stosuje swoją zaawansowaną technologię oczyszczania oraz doświadczenie w zakresie kontroli jakości do opracowywania, produkcji i dystrybucji na całym świecie preparatów chemicznych o wysokiej czystości na poziomie ppt*9, w tym wysokiej czystości kwasu siarkowego, alkoholu izopropylowego i wodorotlenku amonu, jak również specjalistycznych mieszanek kwasów i rozpuszczalników. Do preparatów chemicznych wysokiej czystości zalicza się szeroką grupę chemikaliów powszechnie wykorzystywanych w procesie produkcji elementów półprzewodnikowych. Podczas wytwarzania wafli krzemowych chemikalia te stosowane są w procesach oczyszczania, suszenia oraz usuwania z powierzchni wafli pozostałości zanieczyszczeń metalicznych i organicznych. Oczekiwany jest bardzo silny wzrost popytu na preparaty chemiczne wysokiej czystości w związku z dynamicznym rozwojem segmentu produkcji półprzewodników w tempie 11% rocznie*10, za czym idzie wzrost zapotrzebowania na odczynniki stosowane na etapach oczyszczania, wytrawiania*11 i osuszania podczas zaawansowanych procesów produkcyjnych elementów półprzewodnikowych.
Z uwagi na fakt, że sektor półprzewodników według prognoz ma do 2030 roku osiągnąć wartość 1 biliona USD*12, firma Fujifilm, przewidując dynamiczny rozwój branży, będzie kontynuowała budowanie pozycji lidera w łańcuchu dostaw dla sektora produkcji półprzewodników. Dzięki ciągłym inwestycjom w dział materiałów elektronicznych, z uwzględnieniem przejęcia firmy KMG, a także przewidując wzrost sektora półprzewodników, firma Fujifilm jest gotowa, aby osiągnąć cele finansowe przewidziane dla działu materiałów elektronicznych w postaci uzyskania przychodu ze sprzedaży na poziomie 250 mld jenów do roku obrotowego 2026 i 400 mld jenów do roku obrotowego 2030 – dwa lata wcześniej, niż planowano. Ponadto, firma Fujifilm skorygowała cele sprzedażowe na rok 2030, zwiększając je o 100 mld jenów, do kwoty 500 mld jenów.
Oczekuje się, że transakcja nabycia KMG zostanie sfinalizowana do końca roku 2023, pod warunkiem spełnienia zwyczajowych warunków finalizacji umowy, w tym wygaśnięcia lub zakończenia okresu oczekiwania zgodnie z obowiązującymi w Stanach Zjednoczonych przepisami ustawy Hart-Scott-Rodino Act o poprawkach antytrustowych z 1976 r.
*1: Umowa została zawarta między Fujifilm i spółką CMC Materials LLC, spółką zależną Entegris.
*2: Ostateczna wartość transakcji może ulec zmianie w związku z koniecznością uwzględnienia salda rachunku depozytowego przejmowanego przedsiębiorstwa, oprocentowanych zobowiązań finansowych, wysokości kapitału obrotowego oraz innych czynników istotnych w momencie nabycia. Zamknięcie transakcji nastąpi do końca 2023 roku, pod warunkiem spełnienia zwyczajowych warunków finalizacji umowy.
*3: Światłoczuła substancja chemiczna nanoszona na wafel krzemowy podczas tworzenia wzoru obwodów w procesie produkcji półprzewodników.
*4: Substancja chemiczna zawierająca materiał ścierny wykorzystywana w procesie planaryzacji (polerowania) chemiczno-mechanicznej w celu precyzyjnego wyrównania powierzchni półprzewodnika zawierającej ścieżki elektryczne i warstwy izolujące o zróżnicowanej twardości.
*5: Preparat czyszczący stosowany po procesie polerowania metodą planaryzacji chemiczno-mechanicznej z wykorzystaniem tzw. szlamu polerskiego. Preparat ten pozwala oczyścić powierzchnię wafla krzemowego z różnych cząstek, śladowych pozostałości metalu i zanieczyszczeń organicznych, chroniąc jednocześnie metalową powierzchnię.
*6: Specjalistyczne substancje chemiczne stosowane w elektronice rozprowadzane metodą chemicznego osadzania z fazy gazowej (ang.: Chemical Vapor Deposition – CVD), pozwalające uformować warstwę dielektryka lub innego rodzaju warstwy na powierzchni wafla krzemowego.
*7: Materiał o wysokim stopniu odporności cieplnej i właściwościach izolacyjnych, wykorzystywany do uformowania warstwy ochronnej półprzewodnika i warstwy przewodzącej.
*8: Ogólny termin odnoszący się do grupy materiałów funkcjonalnych, które kontrolują fale elektromagnetyczne (światło) o różnych długościach. Zawierają pigmentowe materiały światłoczułe. Stosowane są w produkcji filtrów kolorystycznych matrycy światłoczułej, takiej jak matryca typu CMOS stosowana w aparatach cyfrowych i smartfonach.
*9: Skrótowiec ppt znaczy „cząstki na bilion“ (ang.: parts per trillion), co oznacza, że preparat zawiera zanieczyszczenia rzędu jednej bilionowej.
*10: Średni roczny współczynnik wzrostu w ciągu 5 lat od 2021 roku, cytowany za raportem nt. sektora materiałów półprzewodnikowych opracowanym przez amerykańską firmę badawczą „Linx“.
*11: Proces, w ramach którego wykorzystuje się sprzęt naświetlający do przeniesienia obrazu obwodów na wafel krzemowy oraz stosowane są żrące substancje chemiczne do usunięcia niepotrzebnej warstwy metalu lub warstwy tlenku w celu uformowania obwodu półprzewodnikowego.
*12: McKinsey, „Dekada półprzewodników: przemysł wart bilion dolarów“, 1 kwietnia 2022 r.
Kontakt
Media contact
FUJIFILM Holdings Corporation
Corporate Communications Division
Public Relations Group
TEL +81-3-6271-2000
* Należy mieć na uwadze, że opis, w tym dostępność produktów, specyfikacja, ceny i dane kontaktowe na tej stronie są aktualne na dzień ogłoszenia prasowego i mogą ulec zmianie bez wcześniejszego powiadomienia.