日本
シリコンウェハ

Low-k(低誘電率)材料

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45/22nmノード以下用の高度な誘電体

  • サプライチェーン、精製、および製品挙動(安定性など)の改善を重点課題に設定
  • 1.2~200リットルのステンレススチール容器
  • 現場での最先端の分析ラボによる分析
  • 健康ハザードのレビュー
  • 特殊なラベリング
  • 全世界への出荷
  • 精製からプロセスチャンバーまで