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フォトレジスト
幅広い電子ビーム画像形成の用途に対応したポジ型およびネガ型レジストシリーズ
EUV（13.5nm）
ネガ型現像用EUV材料
NIL（ナノインプリントリソグラフィ）
先端半導体向けNIL用材料
ArF（193nm）
ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTI）用材料
KrF（248nm）
幅広い用途を対象とするポジ型KrFフォトレジスト
i線・g線・広帯域
0.30µm以下から1.0µmを超える解像度まで適用可能な中波紫外線感度フォトレジスト拡張シリーズ
ネガ型（ポリイソプレンベース）
ネガ型、ポリイソプレンベース系レジストのマルチシリーズ
