EUV（13.5nm） : 概要

EUV露光プロセスに求められる回路パターンの微細化を実現するネガ型のEUVレジスト。
高純度有機溶剤を用いて現像時のレジストの膨潤と欠陥を抑え、シャープで微細な回路パターンの形成が可能なNTI（Negative Tone Imaging =ネガ型）現像液 。

• *1 Photo Decomposable Quencher

• EUV NTI CAR
• EUV NTI 現像液　DP819A

• レジストの反応制御機能を持つ光分解性クエンチャー連結型光酸発生剤（PCP）を導入。露光時の膜中の酸濃度を均一に保つことで、従来の化学増幅型レジストの課題であったLWRを低減。
• 高純度有機溶剤を用いたNTI現像液で現像時のレジストの膨潤と欠陥を抑え、高いパターニング精度を実現。