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フォトレジスト

ArF(193nm)

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ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像(NTD)用材料

ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像(NTD)など、193nm露光に対応した高解像度回路パターン形成システムの豊富なラインアップを有しております。

  • 高いスループット
  • 優れた解像度
  • プロセスウィンドウが広い
  • 低欠陥レベル
  • 垂直プロファイル

製品ラインアップ

  • GARシリーズ
    GARシリーズの製品は、193nmのドライ露光を必要とする様々な用途に適しています。
  • PTD(ポジ型現像)用FAiRSシリーズ
    FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とポジ型現像を必要とする様々な用途に適しています。
  • NTD(ネガ型現像)用FAiRSシリーズ
    FAiRSシリーズの製品は、193nmの液浸露光とネガ型現像を必要とする様々な用途に適しています。