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マクロシリコンウェーハ

フォトレジスト

ネガ型(ポリイソプレンベース)

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ネガ型、ポリイソプレンベース系レジストのマルチシリーズ

さまざまな基板上での幅広い投影、近接および接触回路パターン形成、ウェットエッチングのニーズに適用できる、複数シリーズのネガ型、ポリイソプレンベース系のレジストがあります。

製品ラインアップ

  • SCレジストシリーズ
    コンタクトプリンターの露光で1.8~10µmのコーティングを必要とする厚膜用途に設計されています。
  • ICタイプ3レジストシリーズ
    投影、近接、コンタクトプリンターでの露光用に0.75~2.0µmのコーティングが必要な用途に設計されています。
  • HNRレジストシリーズ
    近接およびコンタクトプリンターでの露光用に0.50~1.40µmのコーティングが必要な高解像度用途に設計されています。
  • HRレジストシリーズ
    投影、近接、コンタクトプリンターの高反射率基板での露光に対し、0.70~1.50µmのコーティングが必要な用途に設計されています。