日本
シリコンウェーハを持っている研究員

フォトレジスト

KrF(248nm)

NEW

幅広い用途を対象とするポジ型KrFフォトレジスト

GKRシリーズは、幅広い用途を対象とするポジ型KrF系フォトレジストです。

  • 高アスペクト比用途
  • 優れたプラズマエッチング耐性およびイオン注入耐性
  • 高い熱安定性
  • プロセスウィンドウが広い
  • 低欠陥レベル
  • 長期間安定性
  • 垂直プロファイル
  • 幅広い厚さに対応