パターン微細化は、より短い露光波長によってもたらされてきた
PCPを導入することで、LWRを17％も大幅に改善
EUV露光で優れた解像度を実現するために、新開発のDP819Aが誕生
日本
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幅広い回路パターン形成を提供するフォトレジストの大手サプライヤー -
フォトレジスト
NIL（ナノインプリントリソグラフィ）
先端半導体向けNIL用材料
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フォトレジスト
ArF（193nm）
ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTI）用材料
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フォトレジスト
KrF（248nm）
幅広い用途を対象とするポジ型KrFフォトレジスト
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フォトレジスト
i線・g線・広帯域
0.30µm以下から1.0µmを超える解像度まで適用可能な中波紫外線感度フォトレジスト拡張シリーズ
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フォトレジスト
ネガ型（ポリイソプレンベース）
ネガ型、ポリイソプレンベース系レジストのマルチシリーズ
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フォトレジスト
電子ビーム
幅広い電子ビーム画像形成の用途に対応したポジ型およびネガ型レジストシリーズ
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