このウェブサイトはクッキーを使用しています。このサイトを使用することにより、プライバシーポリシーに同意したことになります。
フォトレジスト
0.30µm以下から1.0µmを超える解像度まで適用可能な中波紫外線感度フォトレジスト拡張シリーズ
EUV（13.5nm）
ネガ型現像用EUV材料
NIL（ナノインプリントリソグラフィ）
先端半導体向けNIL用材料
ArF（193nm）
ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTI）用材料
KrF（248nm）
幅広い用途を対象とするポジ型KrFフォトレジスト
ネガ型（ポリイソプレンベース）
ネガ型、ポリイソプレンベース系レジストのマルチシリーズ
電子ビーム
幅広い電子ビーム画像形成の用途に対応したポジ型およびネガ型レジストシリーズ
