日本
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幅広い回路パターン形成を提供するフォトレジストの大手サプライヤー -
フォトレジスト
EUV（13.5nm）
ネガ型現像用EUV材料
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フォトレジスト
NIL（ナノインプリントリソグラフィ）
先端半導体向けNIL用材料
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フォトレジスト
ArF（193nm）
ポジ型ドライおよび液浸回路パターン形成、ネガ型現像（NTI）用材料
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フォトレジスト
i線・g線・広帯域
0.30µm以下から1.0µmを超える解像度まで適用可能な中波紫外線感度フォトレジスト拡張シリーズ
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フォトレジスト
ネガ型（ポリイソプレンベース）
ネガ型、ポリイソプレンベース系レジストのマルチシリーズ
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フォトレジスト
電子ビーム
電子ビーム照射によるフォトマスク作製用途に対応したポジ型およびネガ型レジストシリーズ
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