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ホーム ビジネスのお客さま 半導体材料 フォトレジスト NIL(ナノインプリントリソグラフィ) NIL(ナノインプリントリソグラフィ):用途
回路が青とオレンジに光る半導体基板のイメージ画像。

フォトレジスト

NIL(ナノインプリントリソグラフィ) : 用途

先端半導体向けNIL用材料

  • EUVやArFの先端半導体領域
NILプロセスイメージ
レジストNIL部材の構成に関するイメージ画像。下から基材下地層、密着材、凸型に加工されたUV硬化樹脂のレジスト層があり、その上に凹型に加工された石英マスクが記載されている。