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- 効率的な粒子除去
- 優れた有機物洗浄性
- 金属配線の電気特性の維持に優れた腐食防止
- コストメリット － 濃縮クリーナーにより、POUでのコスト削減が可能
- Clean-100
- 業界標準のCu-pCMPクリーナー
- 酸性pHプラットフォーム
- 低Cu溶解速度
- パーティクルや有機残渣に対する良好な洗浄性
- MPパッド寿命延長のためのパッド洗浄液としても使用可能
- WCP-200
- 業界標準のW-pCMPクリーナー
- 中性pHプラットフォーム
- 低W溶解速度
- パーティクルおよび有機残渣に対する良好な洗浄性
- FCN100XC
- W、Moおよび絶縁膜用のpCMPクリーナーとして設計。
- 優れた金属腐食保護のための酸性pHプラットフォーム（FCN1003C）／中性pH（FCN1006C）を提供可能
- Ox、SiN、poly-Si上のパーティクルおよび有機残渣に対する優れた洗浄性
- プラテン上でのBuff洗浄液／pCMPの2-in-1製品として最適な洗浄性を持つ製品
- FCN300XC
- WCP-200（W-pCMPクリーナー）の改良品として設計。Mo向けにも使用可能。
- 中性pHプラットフォーム（FCN3000C）、アルカリ性pHプラットフォーム（FCN3003C）、酸性pHプラットフォーム（FCN3004C）を提供可能
- 低W溶解速度
- WOx/Wの高い選択性
- より高いパーティクルおよび有機残渣除去性能
- 最先端デバイス上の微小パーティクルに対するの高い洗浄性能
- プラテン上でのBuff洗浄液／pCMPの2-in-1製品として最適な製品
- CCN9002C
- 最先端向けのCu-pCMPクリーナーとして設計
- アルカリpHプラットフォーム
- 低Cu／Co溶解速度
- Ru向けにも使用可能
- パーティクルおよび有機残渣に対する良好な洗浄性
- プラテン上でのBuff洗浄液／pCMPの2-in-1製品として設計
- CCN9005C
- 最先端Hybrid bonding向けのCu-pCMPクリーナーとして設計
- アルカリpHプラットフォーム
- 低いCu溶解速度、特にブラシ洗浄中のCuロスを最小化
- Cu、TEOS、SiCN上での パーティクルおよび有機残渣に対する良好な洗浄性
- プラテン上でのBuff洗浄液／pCMPの2-in-1製品として設計
