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CMPスラリー

バリアメタル用CMPスラリー

バリアメタル用CMPスラリー：用途

溶剤が入っている複数の青いドラム缶が並んでいるイメージ画像。

バリアメタル用CMPスラリー : 用途

富士フイルムのバリアメタル用CMPスラリーは、銅の除去ステップ後露出したバリアメタルを除去し、ウェーハ表面全体のすべての膜を平坦化するように設計されています。

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CMPスラリー
CMP（化学的と機械的の相乗作用による研磨)は、電子機器で使用されている高度な半導体デバイスまたは「マイクロチップ」の製造における重要なプロセスです。