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次世代金属配線材料向けCMPスラリー

次世代金属配線材料向けCMPスラリー：用途

実験用の眼鏡とマスクをつけた研究者が青い手袋をして作業する様子のイメージ画像。

次世代金属配線材料向けCMPスラリー : 用途

富士フイルムのコバルト用CMPスラリーは、高密度なコバルト配線研磨中にコバルトおよびバリア金属を研磨し、回路内のすべての膜を平坦化するように設計されています。

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CMPスラリー
CMP（化学的と機械的の相乗作用による研磨)は、電子機器で使用されている高度な半導体デバイスまたは「マイクロチップ」の製造における重要なプロセスです。